無(wú)塵車間要控制相對(duì)濕度，以下幾個(gè)影響因素也是關(guān)鍵：

金屬腐蝕：很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在無(wú)塵車間、潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運(yùn)的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng)；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。 

水汽冷凝：在相對(duì)濕度較高的環(huán)境中，濃縮水形的毛細(xì)管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵，可以增加顆粒與硅質(zhì)表面的黏附力。這種效應(yīng)——?jiǎng)P爾文濃縮——當(dāng)相對(duì)濕度小于50%時(shí)并不重要，但當(dāng)相對(duì)濕度在70%左右時(shí)，就成為顆粒之間黏附的主要力量。 所以必須要對(duì)無(wú)塵車間相對(duì)濕度控制。

光刻的退化：這在半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室中迫切需要適當(dāng)控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是嚴(yán)格的水準(zhǔn)。實(shí)際應(yīng)用上，相對(duì)濕度和溫度對(duì)于光刻膠穩(wěn)定性以及精確的尺寸控制都是很關(guān)鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著相對(duì)濕度的上升而迅速下降。當(dāng)然，改變粘性，就會(huì)改變由固定組分涂層形成的保護(hù)膜的厚度。

還有就是吸水性，在高的相對(duì)濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)面影響；較低的相對(duì)濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二硅氮烷(HMDS)。

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